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標(biāo)題: 等離子噴涂------必須要在真空中進(jìn)行嗎,? [打印本頁]

作者: laodongbeiren    時(shí)間: 2011-6-6 07:29
標(biāo)題: 等離子噴涂------必須要在真空中進(jìn)行嗎,?
為何一提到等離子噴涂就是真空呢?
作者: 互通有無    時(shí)間: 2011-6-6 07:54
哪位高手介紹一下等離子噴涂的原理,、特點(diǎn),、用途等,學(xué)習(xí)學(xué)習(xí),。謝謝,。
作者: tyx2000    時(shí)間: 2011-6-6 09:44
等離子噴涂本身不是在要求真空中進(jìn)行的。只是等離子噴涂現(xiàn)場的噪聲非常大,,遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于78~85db,,長時(shí)間在那個(gè)環(huán)境中人帶耳塞都受不了,�,?赡苁菫榱私翟耄笳婵者M(jìn)行吧,。
作者: 生而為贏    時(shí)間: 2011-6-6 10:27
你最好先了解了解什么是叫“等離子”,,然后就自然知道為什么要在真空里面進(jìn)行了!
: R2 N) z! V0 o' X4 e
作者: laodongbeiren    時(shí)間: 2011-6-6 21:55
真能搞笑,,我手中就有等離子,,沒事就打開玩。
作者: luckstone2008    時(shí)間: 2011-6-7 10:45
你學(xué)過高中物理不,,里面有說到PVD(物理氣相沉積),CVD(化學(xué)氣相沉積),,等離子噴涂基本就是物理氣相沉積,如果你忘記了那你百度一下看看原理吧,,PVD是利用等離子電漿轟擊靶材,,然后要涂覆的金屬原子就沉積在產(chǎn)品上,半導(dǎo)體廠都有這個(gè)工藝,,一般是沉積AL,,TIN,TI




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