關于鍍鉻的幾個疑問

SY1100479

新人求教關于鍍鉻的幾個問題： 1.鍍硬鉻跟鍍黑鉻表面硬度上有什么區(qū)別嗎,？鍍鉻后一般硬度可達到多少,？
5 B% J1 C, p6 V8 N% g; U 2.鍍層厚度一般在什么樣的水平,，20um-50um嗎,？
3 o% G! ~' G* O7 |) H7 e) a 3.除了鍍鉻,，有沒有其他表面處理技術可以使材料表面拋光后亮度提升？目前材料S136磨過后粗糙度在200nm,，3M砂紙拋光一小時后鏡面效果不佳,。

wtangzz147

想要鏡面效果,，直接亮光鍍鉻？

SY1100479

wtangzz147 發(fā)表于 2020-12-9 16:57
( d+ D7 L; s# [" `% c想要鏡面效果,，直接亮光鍍鉻,？

直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內,，端面磨完之后是在2um左右,，但是磨完粗糙度還是有點大，目前是計劃先磨再鍍鉻再拋光（拋光同時把平面度處理好）

18706204575

涉及高精度加工,，不懂

大陸架

利用光學鏡頭行業(yè)的拋光液拋光試試,。

大陸架

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）,、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）,、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類,。 [2]
多晶金剛石拋光液
多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分,，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產(chǎn)生劃傷,。
5 i4 K+ V! q$ p* h主要應用于藍寶石襯底的研磨,、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光,。
氧化硅拋光液
" G% u, X" ]; s+ E7 H氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料,，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。
8 T# p. F" y1 T廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,，如：硅晶圓片、鍺片,、化合物半導體材料砷化鎵,、磷化銦，精密光學器件,、藍寶石片等的拋光加工,。
氧化鈰拋光液
氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,，該研磨液具有分散性好、粒度細,、粒度分布均勻,、硬度適中等特點。
適用于高精密光學儀器,，光學鏡頭,，微晶玻璃基板，晶體表面,、集成電路光掩模等方面的精密拋光,。
7 E) _9 T$ F* B; m/ B- t氧化鋁和碳化硅拋光液
$ \* b8 g5 P5 m9 H) i是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料,。
主要用于高精密光學儀器,、硬盤基板、磁頭,、陶瓷,、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

SY1100479

大陸架 發(fā)表于 2020-12-10 08:31
拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液 ...

老哥,，氧化鈰適合拋光玻璃，我們有在用的粒度是0.5um的,，金屬拋光不太適合,；
7 l1 S) }, o  X& V4 W4 B另外，我詢問的是鍍鉻的知識

parkorliu

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內,，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙 ...

7 w/ }, k$ F6 h# S" S1 v, z) r可以鍍后加工的,，我們水工行業(yè)的活塞桿就是這么干的,。表面粗糙度＜Ra0.2，再高就沒試過了,。
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wtangzz147

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內，端面磨完之后是在2um左右,，但是磨完粗糙 ...

% A: }+ z' c; k4 i$ A! Z) Z2 s先磨再鍍感覺靠譜
! u5 k, o# g" H6 p3 @

遠祥

鍍黑鉻有時是起到裝飾作用,，就像油標卡尺的刻度線，它就是黑鉻,，這種粘付力不大,，容易被擦掉，所以硬鉻鍍層粘付力才大,。