ASML今年發(fā)貨第一臺(tái)高NA EUV光刻機(jī)：成本逼近30億元,！

aiyusheng

EUV光刻技術(shù)的推進(jìn)相當(dāng)困難,，光刻機(jī)龍頭ASML也是舉步維艱,，一點(diǎn)點(diǎn)改進(jìn),。

快科技9月7日消息,，ASML宣布,，將在今年底發(fā)貨第一臺(tái)支持高NA(數(shù)值孔徑)的EUV極紫外光刻機(jī),，型號“Twinscan EXE:5000”。

NA數(shù)值孔徑是光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo),，直接決定了光刻的實(shí)際分辨率,，以及最高能達(dá)到的工藝節(jié)點(diǎn)。

ASML現(xiàn)有最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)是NEX:3400C,、NEX:3400D,，NA只有0.33，對應(yīng)的分辨率為13nm,，可以生產(chǎn)金屬間距在38-33nm之間的芯片,。

但是，金屬間距縮小到30nm以下之后,，也就是對應(yīng)的工藝節(jié)點(diǎn)超越5nm,，這樣的分辨率就不夠了，只能使用EUV雙重曝光和/或曝光成形(pattern shaping)技術(shù)來輔助,，不但會(huì)大大增加成本,，還會(huì)降低良品率。

因此,，更高的NA成為必需,，新一代EXE:5000就能做到0.55 NA，光刻分辨率也將縮小到8nm,。

EXE:5000有點(diǎn)像是實(shí)驗(yàn)平臺(tái),，供芯片制造廠學(xué)習(xí)如何使用高NA EUV技術(shù)，而預(yù)計(jì)2025年發(fā)貨的下一代EXE:5200，才能支持大規(guī)模量產(chǎn),。

Intel最初計(jì)劃在其18A(1.8nm)工藝節(jié)點(diǎn)使用ASML的高NA EUV光刻機(jī),，2025年量產(chǎn)，但后來提前到了2024年下半年,，等不及ASML的新機(jī)器,。

于是，Intel就改用0.33 NA NXE:3600D/3800E,，疊加雙重曝光來實(shí)現(xiàn)18A工藝,，同時(shí)使用應(yīng)用材料的Endura Sculpta的曝光成形系統(tǒng)來盡可能減少雙重曝光的使用。

盡管如此,，Intel依然會(huì)是高NA EUV光刻機(jī)的第一家客戶,，可能會(huì)在18A節(jié)點(diǎn)的后期引入它,。臺(tái)積電,、三星都計(jì)劃在2025年晚些時(shí)候投產(chǎn)2nm工藝，或許也會(huì)用上高NA EUV光刻機(jī),。

至于這種先進(jìn)光刻機(jī)的價(jià)格,，沒有官方數(shù)據(jù)，不同報(bào)告估計(jì)在單臺(tái)成本就要3-4億美元,，相當(dāng)于人民幣22-29億元,。

喂我袋鹽

再不出貨，就被中國白菜化了,。

babty

近在咫尺,，遠(yuǎn)在天涯。

小刺

真不便宜啊,，也不知道哪些冤大頭會(huì)買

白無無

這個(gè)質(zhì)保有多少年,？保修費(fèi)一年得多少啊,？

wuqitao0000

再不出貨,，就被中國白菜化了。