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研制成功,!中子探測(cè)器關(guān)鍵技術(shù)實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化

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發(fā)表于 2023-10-23 15:56:05 | 只看該作者 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
近日,,中國散裂中子源(CSNS)探測(cè)器團(tuán)隊(duì)利用自主研制的磁控濺射大面積鍍硼專用裝置,,成功制備出滿足中子探測(cè)器需求的高性能大面積碳化硼薄膜樣品,單片面積達(dá)到1500mm×500mm,,薄膜厚度1微米,,全尺寸范圍內(nèi)厚度均勻性優(yōu)于±1.32%,是目前國際上用于中子探測(cè)的最大面積的碳化硼薄膜,。


高性能大面積碳化硼薄膜樣品,。受訪單位供圖。


據(jù)了解,,經(jīng)過多年技術(shù)攻關(guān)和工藝試制,,團(tuán)隊(duì)攻克了濺射靶材制作、過渡層選擇,、基材表面處理等對(duì)鍍膜質(zhì)量影響大的關(guān)鍵技術(shù),,利用該裝置制備了多種規(guī)格的碳化硼薄膜,并成功應(yīng)用于CSNS多臺(tái)中子譜儀上的陶瓷GEM中子探測(cè)器,,實(shí)現(xiàn)了中子探測(cè)器關(guān)鍵技術(shù)和器件的國產(chǎn)化,,為接下來研制更大面積的高性能新型中子探測(cè)器提供了強(qiáng)有力的技術(shù)支撐。


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