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微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn)

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發(fā)表于 2010-4-19 15:29:30 | 只看該作者 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
微弧氧化  微弧氧化(Microarc oxidation,,MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO),是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合,,在鋁,、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用,,生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層,。在微弧氧化過程中,化學(xué)氧化,、電化學(xué)氧化,、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個(gè)合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。
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  微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,,克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷,,極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,,結(jié)構(gòu)致密,,韌性高,具有良好的耐磨,、耐腐蝕,、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術(shù)具有操作簡單和易于實(shí)現(xiàn)膜層功能調(diào)節(jié)的特點(diǎn),,而且工藝不復(fù)雜,,不造成環(huán)境污染,是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù),,在航空航天,、機(jī)械、電子,、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景,。
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5 z* F+ H: j% d! j, E0 {' H& x  微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn):7 ^0 Y0 x8 j5 o8 A
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  微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術(shù),是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上,,利用弧光放電增強(qiáng)并激活在陽極上發(fā)生的反應(yīng),從而在以鋁,、鈦,、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優(yōu)質(zhì)的強(qiáng)化陶瓷膜的方法,是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓,,使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,,在工件表面形成微弧放電,在高溫,、電場等因素的作用下,,金屬表面形成陶瓷膜,達(dá)到工件表面強(qiáng)化的目的,。( _  h: f; b) Y8 H7 J

0 [- j8 Y, W) p: l# e  微弧氧化技術(shù)的突出特點(diǎn)是:(1)大幅度地提高了材料的表面硬度,,顯微硬度在1000至2000HV,最高可達(dá)3000HV,,可與硬質(zhì)合金相媲美,,大大超過熱處理后的高碳鋼,、高合金鋼和高速工具鋼的硬度,;(2)良好的耐磨損性能;(3)良好的耐熱性及抗腐蝕性,。這從根本上克服了鋁,、鎂、鈦合金材料在應(yīng)用中的缺點(diǎn),,因此該技術(shù)有廣闊的應(yīng)用前景,;(4)有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達(dá)100MΩ,。(5)溶液為環(huán)保型,,符合環(huán)保排放要求。(6)工藝穩(wěn)定可靠,設(shè)備簡單.(7)反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,,操作方便,,易于掌握。(8)基體原位生長陶瓷膜,,結(jié)合牢固,陶瓷膜致密均勻,。
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發(fā)表于 2010-6-21 06:27:32 | 只看該作者
長見識了!7 b% v  d1 y$ _) s! B# N$ _. x
謝謝分享了,!
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發(fā)表于 2021-4-23 13:26:50 | 只看該作者
學(xué)習(xí)了,,環(huán)保,、表面硬度高、絕緣性能好
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發(fā)表于 2022-2-14 10:55:47 | 只看該作者
請問微弧氧化之后,,材料會(huì)變得比較脆嘛,,我要做鎂合金壓鑄件,準(zhǔn)備微弧氧化+電泳
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