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標(biāo)題: 微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn) [打印本頁(yè)]

作者: wugqtop    時(shí)間: 2010-4-19 15:29
標(biāo)題: 微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn)
微弧氧化  微弧氧化(Microarc oxidation,MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO),,是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合,,在鋁、鎂,、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用,,生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中,,化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化,、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個(gè)合理的模型能全面描述陶瓷層的形成,。
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  微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷,極大地提高了膜層的綜合性能,。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,,具有良好的耐磨,、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性,。該技術(shù)具有操作簡(jiǎn)單和易于實(shí)現(xiàn)膜層功能調(diào)節(jié)的特點(diǎn),,而且工藝不復(fù)雜,不造成環(huán)境污染,,是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù),,在航空航天、機(jī)械,、電子,、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
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  微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn):
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+ v, D+ `! `' n' D5 G( {  微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術(shù),是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上,,利用弧光放電增強(qiáng)并激活在陽極上發(fā)生的反應(yīng),,從而在以鋁、鈦,、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優(yōu)質(zhì)的強(qiáng)化陶瓷膜的方法,,是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓,使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,,在工件表面形成微弧放電,,在高溫、電場(chǎng)等因素的作用下,,金屬表面形成陶瓷膜,,達(dá)到工件表面強(qiáng)化的目的。
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  r* p9 u/ G% e! k( b& X  微弧氧化技術(shù)的突出特點(diǎn)是:(1)大幅度地提高了材料的表面硬度,,顯微硬度在1000至2000HV,,最高可達(dá)3000HV,可與硬質(zhì)合金相媲美,,大大超過熱處理后的高碳鋼,、高合金鋼和高速工具鋼的硬度;(2)良好的耐磨損性能,;(3)良好的耐熱性及抗腐蝕性,。這從根本上克服了鋁、鎂,、鈦合金材料在應(yīng)用中的缺點(diǎn),,因此該技術(shù)有廣闊的應(yīng)用前景;(4)有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達(dá)100MΩ,。(5)溶液為環(huán)保型,,符合環(huán)保排放要求。(6)工藝穩(wěn)定可靠,設(shè)備簡(jiǎn)單.(7)反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,,操作方便,,易于掌握。(8)基體原位生長(zhǎng)陶瓷膜,,結(jié)合牢固,陶瓷膜致密均勻,。
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作者: 磁控濺射鍍膜    時(shí)間: 2010-6-21 06:27
長(zhǎng)見識(shí)了!! E' M! ?5 B& W5 {+ v  W6 j' l
謝謝分享了,!
作者: 鈑金準(zhǔn)專家    時(shí)間: 2021-4-23 13:26
學(xué)習(xí)了,,環(huán)保、表面硬度高,、絕緣性能好
作者: 熙音鑫    時(shí)間: 2022-2-14 10:55
請(qǐng)問微弧氧化之后,,材料會(huì)變得比較脆嘛,我要做鎂合金壓鑄件,,準(zhǔn)備微弧氧化+電泳




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