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微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn)

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發(fā)表于 2010-4-19 15:29:30 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
微弧氧化  微弧氧化(Microarc oxidation,,MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO),是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合,,在鋁,、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用,,生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層,。在微弧氧化過程中,,化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化,、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成,。# W9 a* W7 l& P6 _& u8 e1 e# Q

" T; ^2 F4 L) v; s& h3 n  微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷,,極大地提高了膜層的綜合性能,。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,,韌性高,,具有良好的耐磨、耐腐蝕,、耐高溫沖擊和電絕緣等特性,。該技術(shù)具有操作簡單和易于實現(xiàn)膜層功能調(diào)節(jié)的特點(diǎn),而且工藝不復(fù)雜,,不造成環(huán)境污染,,是一項全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù),在航空航天,、機(jī)械,、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景,。
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  微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn):5 C; l9 z$ `" }6 ^5 D: a

! G1 z" P. y* c6 N  微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術(shù),是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上,,利用弧光放電增強(qiáng)并激活在陽極上發(fā)生的反應(yīng),從而在以鋁,、鈦,、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優(yōu)質(zhì)的強(qiáng)化陶瓷膜的方法,是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓,,使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,,在工件表面形成微弧放電,在高溫,、電場等因素的作用下,,金屬表面形成陶瓷膜,達(dá)到工件表面強(qiáng)化的目的,。5 Q) s  [2 W( c- H

- z* P" R( x5 C  F3 g5 o  微弧氧化技術(shù)的突出特點(diǎn)是:(1)大幅度地提高了材料的表面硬度,,顯微硬度在1000至2000HV,最高可達(dá)3000HV,,可與硬質(zhì)合金相媲美,,大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度,;(2)良好的耐磨損性能,;(3)良好的耐熱性及抗腐蝕性,。這從根本上克服了鋁、鎂,、鈦合金材料在應(yīng)用中的缺點(diǎn),因此該技術(shù)有廣闊的應(yīng)用前景,;(4)有良好的絕緣性能,,絕緣電阻可達(dá)100MΩ。(5)溶液為環(huán)保型,,符合環(huán)保排放要求,。(6)工藝穩(wěn)定可靠,設(shè)備簡單.(7)反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,操作方便,,易于掌握,。(8)基體原位生長陶瓷膜,結(jié)合牢固,陶瓷膜致密均勻,。
# |2 h2 v" s4 w% `% F! D, k* ]以上信息來自百度搜索0 h2 |: _, O( I6 P4 H/ i2 l% J3 |
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發(fā)表于 2010-6-21 06:27:32 | 只看該作者
長見識了,!* }2 b8 e( |3 u. w
謝謝分享了!
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發(fā)表于 2021-4-23 13:26:50 | 只看該作者
學(xué)習(xí)了,,環(huán)保,、表面硬度高、絕緣性能好
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發(fā)表于 2022-2-14 10:55:47 | 只看該作者
請問微弧氧化之后,,材料會變得比較脆嘛,,我要做鎂合金壓鑄件,準(zhǔn)備微弧氧化+電泳
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