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本帖最后由 sf-1224 于 2019-3-25 19:13 編輯
大家好,,最近碰到一個(gè)自動(dòng)清潔cmos的難題,請(qǐng)熟悉此工藝的工程師幫忙支支招,,謝謝,!詳細(xì)下面表述:
背 景:一個(gè)類似照相機(jī)的設(shè)備,在無(wú)塵室進(jìn)行裝配,,其中有個(gè)清潔cmos的工藝,。
清潔要求:a.無(wú)明顯劃痕、臟污或者點(diǎn)塵,;b.不損傷器件
現(xiàn)有工藝:清潔→檢測(cè),。人工用棉簽/細(xì)纖維無(wú)塵布蘸無(wú)水乙醇(≥99.7%)清潔,再用10倍顯微鏡觀察效果,。效果不錯(cuò),!
問(wèn) 題:如何實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化?有沒(méi)有更好的方式清潔,?如何檢測(cè),?
目前方案:利用清潔機(jī)構(gòu)+細(xì)纖維無(wú)塵布(H009 6"*6")+無(wú)水乙醇/純水的方式清潔;CCD檢測(cè),。(不知道靠不靠譜,,能不能達(dá)到10倍顯微鏡的放大效果?)
方案說(shuō)明:產(chǎn)品上方放置一個(gè)移動(dòng)平臺(tái),,串行完成清潔,、抽塵和檢測(cè)工作。注:此方案目前在考慮階段,,還有很多不足,,請(qǐng)大家輕拍!
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